靶丸殼層折射率,、厚度及其分布參數(shù)是激光慣性約束聚變（ICF）物理實驗中非常關(guān)鍵的參數(shù)，精密測量靶丸殼層折射率,、厚度及其分布對ICF精密物理實驗研究具有非常重要的意義,。由于靶丸尺寸微?。▉喓撩琢考墸⒔Y(jié)構(gòu)特殊（球形結(jié)構(gòu)）,、測量精度要求高,，如何實現(xiàn)靶丸殼層折射率及其厚度分布的精密測量是靶參數(shù)測量技術(shù)研究中重要的研究內(nèi)容。本論文針對靶丸殼層折射率及厚度分布的精密測量需求,，開展了基于白光干涉技術(shù)的靶丸殼層折射率及厚度分布測量技術(shù)研究,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以對不同材料的薄膜進(jìn)行聯(lián)合測量和分析。推薦膜厚儀答疑解惑

在激光慣性約束核聚變實驗中,，靶丸的物性參數(shù)和幾何參數(shù)是靶丸制備工藝改進(jìn)和仿真模擬核聚變實驗過程的基礎(chǔ),，因此如何對靶丸多個參數(shù)進(jìn)行同步、高精度,、無損的綜合檢測是激光慣性約束核聚變實驗中的關(guān)鍵問題,。以上各種薄膜厚度及折射率的測量方法各有利弊，但針對本文實驗,，仍然無法滿足激光核聚變技術(shù)對靶丸參數(shù)測量的高要求,，靶丸參數(shù)測量存在以下問題：不能對靶丸進(jìn)行破壞性切割測量，否則,，被破壞后的靶丸無法用于于下一步工藝處理或者打靶實驗,；需要同時測得靶丸的多個參數(shù)，不同參數(shù)的單獨(dú)測量,，無法提供靶丸制備和核聚變反應(yīng)過程中發(fā)生的結(jié)構(gòu)變化現(xiàn)象和規(guī)律，并且效率低下,、沒有統(tǒng)一的測量標(biāo)準(zhǔn),。靶丸屬于自支撐球形薄膜結(jié)構(gòu)，曲面應(yīng)力大,、難展平的特點(diǎn)導(dǎo)致靶丸與基底不能完全貼合,，在微區(qū)內(nèi)可看作類薄膜結(jié)構(gòu)常州有哪些膜厚儀白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實現(xiàn)對薄膜厚度的在線檢測和自動控制。

白光干涉的分析方法利用白光干涉感知空間位置的變化,，從而得到被測物體的信息,。它是在單色光相移干涉術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展而來的。單色光相移干涉術(shù)利用光路使參考光和被測表面的反射光發(fā)生干涉,，再使用相移的方法調(diào)制相位,，利用干涉場中光強(qiáng)的變化計算出其每個數(shù)據(jù)點(diǎn)的初始相位，但是這樣得到的相位是位于（-π,，+π]間,，所以得到的是不連續(xù)的相位。因此,，需要進(jìn)行相位展開使其變?yōu)檫B續(xù)相位,。再利用高度與相位的信息求出被測物體的表面形貌,。單色光相移法具有測量速度快、測量分辨力高,、對背景光強(qiáng)不敏感等優(yōu)點(diǎn),。但是，由于單色光干涉無法確定干涉條紋的零級位置,。因此,，在相位解包裹中無法得到相位差的周期數(shù)，所以只能假定相位差不超過一個周期,，相當(dāng)于測試表面的相鄰高度不能超過四分之一波長[27],。這就限制了其測量的范圍，使它只能測試連續(xù)結(jié)構(gòu)或者光滑表面結(jié)構(gòu),。

在白光反射光譜探測模塊中,，入射光經(jīng)過分光鏡1分光后，一部分光通過物鏡聚焦到靶丸表面,，靶丸殼層上,、下表面的反射光經(jīng)過物鏡、分光鏡1,、聚焦透鏡,、分光鏡2后，一部分光聚焦到光纖端面并到達(dá)光譜儀探測器,，可實現(xiàn)靶丸殼層白光干涉光譜的測量,，一部分光到達(dá)CCD探測器，可獲得靶丸表面的光學(xué)圖像,。靶丸吸附轉(zhuǎn)位模塊和三維運(yùn)動模塊分別用于靶丸的吸附定位以及靶丸特定角度轉(zhuǎn)位以及靶丸位置的輔助調(diào)整,，測量過程中，將靶丸放置于軸系吸嘴前端,，通過微型真空泵負(fù)壓吸附于吸嘴上,；然后，移動位移平臺,，將靶丸移動至CCD視場中心,，通過Z向位移臺，使靶丸表面成像清晰,；利用光譜儀探測靶丸殼層的白光反射光譜,；靶丸在軸系的帶動下，平穩(wěn)轉(zhuǎn)位到特定角度,，由于軸系的回轉(zhuǎn)誤差,，轉(zhuǎn)位后靶丸可能偏移CCD視場中心，此時可通過調(diào)整軸系前端的調(diào)心結(jié)構(gòu),，使靶丸定點(diǎn)位于視場中心并采集其白光反射光譜,；重復(fù)以上步驟,，可實現(xiàn)靶丸特定位置或圓周輪廓白光反射光譜數(shù)據(jù)的測量。為減少外界干擾和震動而引起的測量誤差,，該裝置放置于氣浮平臺上,，通過高性能的隔振效果可保證測量結(jié)果的穩(wěn)定性。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實現(xiàn)對復(fù)雜薄膜結(jié)構(gòu)的測量,。

光纖白光干涉測量使用的是寬譜光源,。光源的輸出光功率和中心波長的穩(wěn)定性是光源選取時需要重點(diǎn)考慮的參數(shù)。論文所設(shè)計的解調(diào)系統(tǒng)是通過檢測干涉峰值的中心波長的移動實現(xiàn)的,，所以光源中心波長的穩(wěn)定性將對實驗結(jié)果產(chǎn)生很大的影響,。實驗中我們所選用的光源是由INPHENIX公司生產(chǎn)的SLED光源，相對于一般的寬帶光源具有輸出功率高,、覆蓋光譜范圍寬等特點(diǎn),。該光源采用+5V的直流供電，標(biāo)定中心波長為1550nm,，且其輸出功率在一定范圍內(nèi)是可調(diào)的,，驅(qū)動電流可以達(dá)到600mA。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以對薄膜的表面和內(nèi)部進(jìn)行聯(lián)合測量和分析,。高速膜厚儀品牌企業(yè)

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉圖像的分析實現(xiàn)對不同材料的薄膜的聯(lián)合測量和分析,。推薦膜厚儀答疑解惑

白光干涉光譜分析是目前白光干涉測量的一個重要方向，此項技術(shù)主要是利用光譜儀將對條紋的測量轉(zhuǎn)變成為對不同波長光譜的測量,。通過分析被測物體的光譜特性,，就能夠得到相應(yīng)的長度信息和形貌信息。相比于白光掃描干涉術(shù),，它不需要大量的掃描過程,，因此提高了測量效率，而且也減小了環(huán)境對它的影響,。此項技術(shù)能夠測量距離、位移,、塊狀材料的群折射率以及多層薄膜厚度,。白干干涉光譜法是基于頻域干涉的理論，采用白光作為寬波段光源,，經(jīng)過分光棱鏡,，被分成兩束光，這兩束光分別入射到參考面和被測物體,，反射回來后經(jīng)過分光棱鏡合成后,，由色散元件分光至探測器，記錄頻域上的干涉信號,。此光譜信號包含了被測表面的信息,，如果此時被測物體是薄膜,，則薄膜的厚度也包含在這光譜信號當(dāng)中。這樣就把白光干涉的精度和光譜測量的速度結(jié)合起來,，形成了一種精度高而且速度快的測量方法,。推薦膜厚儀答疑解惑

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