蘇州g線光刻膠單體
有人研究了不同有機(jī)配體對此類光刻膠光刻性能的影響,。有機(jī)配體會影響光刻膠的靈敏度,。通過配體交換法，他們制備了反二甲基丙烯酸（DMA）和鄰甲基苯甲酸（TA）配體的HfO2,、ZrO2體系,。其中HfO2-DMA和ZrO2-DMA體系的靈敏度較高，為1.6~2.4mJ·cm?2,，可實(shí)現(xiàn)20nm線寬的光刻圖案,。此外，配體的種類還將影響光刻膠的溶解性,。Li等報道了不同濃度的不同羧酸與ZrO2或HfO2配合之后的溶解度變化情況,，發(fā)現(xiàn)不飽和的羧酸配體能獲得更大的溶解性差異。光刻膠所屬的微電子化學(xué)品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領(lǐng)域,，是典型的技術(shù)密集行業(yè),。蘇州g線光刻膠單體
2005年，研究人員利用美國光源的高數(shù)值孔徑微觀曝光工具評價了RohmandHaas公司研發(fā)的新型ESCAP光刻膠MET-1K,，并將其與先前的EUV-2D光刻膠相比較,。與EUV-2D相比，MET-1K添加了更多的防酸擴(kuò)散劑,。使用0.3NA的EUV曝光工具,，在90~50nm區(qū)間，EUV-2D和MET-1K的圖形質(zhì)量都比較好,；但當(dāng)線寬小于50nm時,，EUV-2D出現(xiàn)明顯的線條坍塌現(xiàn)象，而MET-1K則直到35nm線寬都能保持線條完整,。在45nm線寬時,，MET-1K仍能獲得較好的粗糙度，LER達(dá)到6.3nm,?？梢奙ET-1K的光刻性能要優(yōu)于EUV-2D。從此,，MET-1K逐漸代替EUV-2D,，成為新的EUV光刻設(shè)備測試用光刻膠。浙江LCD觸摸屏用光刻膠光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,，可分為 PCB 光刻膠,、顯示面板光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及其他光刻膠,。
2005 年起,，Gonsalves 課題組將陽離子基團(tuán)（硫鎓鹽等）修飾的甲基丙烯酸酯與其他光刻膠單體共聚，制備了一系列側(cè)基連接光致產(chǎn)酸劑的光刻膠，聚合物中金剛烷基團(tuán)的引入可以有效提升抗刻蝕性,。這類材料與主體材料和產(chǎn)酸劑簡單共混的配方相比,，呈現(xiàn)出更高的靈敏度和對比度。2009年起,，Thackeray等則將陰離子基團(tuán)連接在高分子主鏈上,，通過EUV曝光可以得到的光刻圖形分辨率為22nm光刻圖形，其對應(yīng)的靈敏度和線邊緣粗糙度分別為12mJ·cm?2和4.2nm,。2011年,，日本富士膠片的Tamaoki等也報道了一系列對羥基苯乙烯型主鏈鍵合光致產(chǎn)酸劑的高分子光刻膠，并研究了不同產(chǎn)酸劑基團(tuán),、高分子組成對分辨率、靈敏度和粗糙度的影響,，最高分辨率可達(dá)17.5nm,。
所謂光刻技術(shù)，指的是利用光化學(xué)反應(yīng)原理把事先準(zhǔn)備在掩模版上的圖形轉(zhuǎn)印到一個襯底（晶圓）上,，使選擇性的刻蝕和離子注入成為可能的過程,，是半導(dǎo)體制造業(yè)的基礎(chǔ)之一。隨著半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展,，光刻技術(shù)從曝光波長上來區(qū)分,，先后經(jīng)歷了g線（436nm）、i線（365nm）,、KrF（248nm）,、ArF（193nm，包括干式和浸沒式）和極紫外（EUV,，13.5nm）光刻,。對應(yīng)于不同的曝光波長，所使用的光刻膠也得到了不斷的發(fā)展,。目前7nm和5nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)已經(jīng)到來,，根據(jù)各個技術(shù)的芯片制造企業(yè)公告，EUV光刻技術(shù)已正式導(dǎo)入集成電路制造工藝,。在每一代的光刻技術(shù)中,，光刻膠都是實(shí)現(xiàn)光刻過程的關(guān)鍵材料之一。光刻膠也稱為光致抗蝕劑,，是一種光敏材料,，受到光照后特性會發(fā)生改變，主要應(yīng)用于電子工業(yè)和印刷工業(yè)領(lǐng)域,。
由于EUV光刻膠膜較薄,，通常小于100nm，對于精細(xì)的線條，甚至不足50nm,，因此光刻膠頂部與底部的光強(qiáng)差異便顯得不那么重要了,。而很長一段時間以來，限制EUV光刻膠發(fā)展的都是光源功率太低,，因此研發(fā)人員開始反過來選用對EUV光吸收更強(qiáng)的元素來構(gòu)建光刻膠主體材料,。于是，一系列含有金屬的EUV光刻膠得到了發(fā)展,，其中含金屬納米顆粒光刻膠是其中的典型,。2010年，Ober課題組和Giannelis課題組首度報道了基于HfO2的金屬納米顆粒光刻膠,，并研究了其作為193nm光刻膠和電子束光刻膠的可能性,。隨后，他們將這一體系用于EUV光刻,，并將氧化物種類拓寬至ZrO2,。他們以異丙醇鉿（或鋯）和甲基丙烯酸（MAA）為原料，通過溶膠-凝膠法制備了穩(wěn)定的粒徑在2~3nm的核-殼結(jié)構(gòu)納米顆粒,。納米顆粒以HfO2或ZrO2為核,，具有很高的抗刻蝕性和對EUV光的吸收能力；而有機(jī)酸殼層不但是光刻膠曝光前后溶解度改變的關(guān)鍵,，還能使納米顆粒穩(wěn)定地分散于溶劑之中,，確保光刻膠的成膜性。ZrO2-MAA納米材料加入自由基引發(fā)劑后可實(shí)現(xiàn)負(fù)性光刻,，在4.2mJ·cm?2的劑量下獲得22nm寬的線條,；而加入光致產(chǎn)酸劑曝光并后烘，利用TMAH顯影則可實(shí)現(xiàn)正性光刻,。目前,，我國光刻膠自給率較低，生產(chǎn)也主要集中在中低端產(chǎn)品,，國產(chǎn)替代的空間廣闊,。華東PCB光刻膠集成電路材料
光刻膠通過光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光,、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上,。蘇州g線光刻膠單體
環(huán)狀單分子樹脂中除了杯芳烴類物質(zhì)以外，還有一類被稱為“水車”（Noria）的光刻膠,，該類化合物由戊二醛和間苯二酚縮合而成,，是一種中心空腔的雙層環(huán)梯狀結(jié)構(gòu)分子，外形像傳統(tǒng)的水車,，因此得名,，起初在2006年時由日本神奈川大學(xué)的Nishikubo課題組報道出來,。隨后，日本JSR公司的Maruyama課題組將Noria改性,，通過金剛烷基團(tuán)保護(hù)得到了半周期為22nm的光刻圖形,。但是這種光刻膠的靈敏度較低、粗糙度較大,，仍需進(jìn)一步改進(jìn)才能推廣應(yīng)用,。蘇州g線光刻膠單體
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