采用峰峰值法處理光譜數(shù)據(jù)時,，被測光程差的分辨率取決于光譜儀或CCD的分辨率,。我們只需獲得相鄰的兩干涉峰值處的波長信息即可得出光程差，不必關(guān)心此波長處的光強大小,，從而降低數(shù)據(jù)處理的難度,。也可以利用多組相鄰的干涉光譜極值對應(yīng)的波長來分別求出光程差，然后再求平均值作為測量光程差,，這樣可以提高該方法的測量精度,。但是，峰峰值法存在著一些缺點：當(dāng)使用寬帶光源作為輸入光源時,，接收光譜中不可避免地疊加有與光源同分布的背景光,，從而引起峰值處波長的改變，引入測量誤差,。同時,，當(dāng)兩干涉信號之間的光程差很小，導(dǎo)致其干涉光譜只有一個干涉峰的時候,，此法便不再適用,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實現(xiàn)對薄膜的大范圍測量和分析。常用膜厚儀供應(yīng)鏈

基于表面等離子體共振傳感的測量方案,，利用共振曲線的三個特征參量—共振角,、半高寬和反射率小值，通過反演計算得到待測金屬薄膜的厚度,。該測量方案可同時得到金屬薄膜的介電常數(shù)和厚度,，操作方法簡單。我們利用Kretschmann型結(jié)構(gòu)的表面等離子體共振實驗系統(tǒng),，測得金膜在入射光波長分別為632.8nm和652.1nm時的共振曲線,，由此得到金膜的厚度為55.2nm。由于該方案是一種強度測量方案,，測量精度受環(huán)境影響較大,，且測量結(jié)果存在多值性的問題，所以我們進一步對偏振外差干涉的改進方案進行了理論分析,，根據(jù)P光和S光之間相位差的變化實現(xiàn)厚度測量,。沈陽防水膜厚儀白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于電子顯示器中的薄膜厚度測量。

薄膜作為重要元件，通常使用金屬,、合金,、化合物、聚合物等作為其主要基材,，品類涵蓋光學(xué)膜,、電隔膜、阻隔膜,、保護膜,、裝飾膜等多種功能性薄膜，廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代光學(xué),、電子,、醫(yī)療、能源,、建材等技術(shù)領(lǐng)域,。常用薄膜的厚度范圍從納米級到微米級不等。納米和亞微米級薄膜主要是基于干涉效應(yīng)調(diào)制的光學(xué)薄膜,，包括各種增透增反膜,、偏振膜、干涉濾光片和分光膜等,。部分薄膜經(jīng)特殊工藝處理后還具有耐高溫,、耐腐蝕、耐磨損等特性,，對通訊,、顯示、存儲等領(lǐng)域內(nèi)光學(xué)儀器的質(zhì)量起決定性作用[1-3],，如平面顯示器使用的ITO鍍膜,，太陽能電池表面的SiO2減反射膜等。微米級以上的薄膜以工農(nóng)業(yè)薄膜為主,，多使用聚酯材料,，具有易改性、可回收,、適用范圍廣等特點,。例如6微米厚度以下的電容器膜，20微米厚度以下的大部分包裝印刷用薄膜,，25~38微米厚的建筑玻璃貼膜及汽車貼膜,，以及厚度為25~65微米的防偽標(biāo)牌及拉線膠帶等。微米級薄膜利用其良好的延展,、密封,、絕緣特性,，遍及食品包裝、表面保護,、磁帶基材,、感光儲能等應(yīng)用市場，加工速度快,，市場占比高,。

利用包絡(luò)線法計算薄膜的光學(xué)常數(shù)和厚度，但目前看來包絡(luò)法還存在很多不足,，包絡(luò)線法需要產(chǎn)生干涉波動,，要求在測量波段內(nèi)存在多個干涉極值點,，且干涉極值點足夠多,，精度才高。理想的包絡(luò)線是根據(jù)聯(lián)合透射曲線的切點建立的,，在沒有正確方法建立包絡(luò)線時,，通常使用拋物線插值法建立，這樣造成的誤差較大,。包絡(luò)法對測量對象要求高,，如果薄膜較薄或厚度不足情況下，會造成干涉條紋減少,，干涉波峰個數(shù)較少,，要利用干涉極值點建立包絡(luò)線就越困難，且利用拋物線插值法擬合也很困難,，從而降低該方法的準(zhǔn)確度,。其次，薄膜吸收的強弱也會影響該方法的準(zhǔn)確度,，對于吸收較強的薄膜,，隨干涉條紋減少，極大值與極小值包絡(luò)線逐漸匯聚成一條曲線,，該方法就不再適用,。因此，包絡(luò)法適用于膜層較厚且弱吸收的樣品,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以對薄膜的厚度和形貌進行聯(lián)合測量和分析,。

光學(xué)測厚方法集光學(xué)、機械,、電子,、計算機圖像處理技術(shù)為一體，以其光波長為測量基準(zhǔn),，從原理上保證了納米級的測量精度,。同時,，光學(xué)測厚作為非接觸式的測量方法，被廣泛應(yīng)用于精密元件表面形貌及厚度的無損測量,。其中,，薄膜厚度光學(xué)測量方法按光吸收、透反射,、偏振和干涉等光學(xué)原理可分為分光光度法,、橢圓偏振法、干涉法等多種測量方法,。不同的測量方法,，其適用范圍各有側(cè)重，褒貶不一,。因此結(jié)合多種測量方法的多通道式復(fù)合測量法也有研究,，如橢圓偏振法和光度法結(jié)合的光譜橢偏法，彩色共焦光譜干涉和白光顯微干涉的結(jié)合法等,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實現(xiàn)對薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的測量,。沈陽防水膜厚儀

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉圖像的分析實現(xiàn)對薄膜的形貌變化的測量和分析。常用膜厚儀供應(yīng)鏈

白光干涉時域解調(diào)方案需要借助機械掃描部件帶動干涉儀的反射鏡移動,，補償光程差,，實現(xiàn)對信號的解調(diào)[44-45]。系統(tǒng)基本結(jié)構(gòu)如圖2-1所示,。光纖白光干涉儀的兩輸出臂分別作為參考臂和測量臂,，作用是將待測的物理量轉(zhuǎn)換為干涉儀兩臂的光程差變化。測量臂因待測物理量而增加了一個未知的光程,，參考臂則通過移動反射鏡來實現(xiàn)對測量臂引入的光程差的補償,。當(dāng)干涉儀兩臂光程差ΔL=0時，即兩干涉光束為等光程的時候,，出現(xiàn)干涉極大值,，可以觀察到中心零級干涉條紋，而這一現(xiàn)象與外界的干擾因素?zé)o關(guān),，因而可據(jù)此得到待測物理量的值,。干擾輸出信號強度的因素包括：入射光功率、光纖的傳輸損耗,、各端面的反射等,。外界環(huán)境的擾動會影響輸出信號的強度，但是對零級干涉條紋的位置不會產(chǎn)生影響,。常用膜厚儀供應(yīng)鏈

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