在納米量級薄膜的各項相關(guān)參數(shù)中,，薄膜材料的厚度是薄膜設(shè)計和制備過程中的重要參數(shù),，是決定薄膜性質(zhì)和性能的基本參量之一，它對于薄膜的光學(xué),、力學(xué)和電磁性能等都有重要的影響[3],。但是由于納米量級薄膜的極小尺寸及其突出的表面效應(yīng)，使得對其厚度的準(zhǔn)確測量變得困難,。經(jīng)過眾多科研技術(shù)人員的探索和研究，新的薄膜厚度測量理論和測量技術(shù)不斷涌現(xiàn),，測量方法實現(xiàn)了從手動到自動,，有損到無損測量,。由于待測薄膜材料的性質(zhì)不同,，其適用的厚度測量方案也不盡相同,。對于厚度在納米量級的薄膜,，利用光學(xué)原理的測量技術(shù)應(yīng)用,。相比于其他方法,，光學(xué)測量方法因為具有精度高,，速度快,，無損測量等優(yōu)勢而成為主要的檢測手段,。其中具有代表性的測量方法有橢圓偏振法，干涉法,，光譜法,，棱鏡耦合法等,。白光干涉膜厚測量技術(shù)的研究需要對光學(xué)理論和光學(xué)儀器有較深入的了解。珠海小型膜厚儀

光譜法是以光的干涉效應(yīng)為基礎(chǔ)的一種薄膜厚度測量方法,，分為反射法和透射法兩類[12],。入射光在薄膜-基底-薄膜界面上的反射和透射會引起多光束干涉效應(yīng),，不同特性的薄膜材料的反射率和透過率曲線是不同的，并且在全光譜范圍內(nèi)與厚度之間是一一對應(yīng)關(guān)系,。因此,，根據(jù)這一光譜特性可以得到薄膜的厚度以及光學(xué)參數(shù),。光譜法的優(yōu)點是可以同時測量多個參數(shù)且可以有效的排除解的多值性,，測量范圍廣，是一種無損測量技術(shù),；缺點是對樣品薄膜表面條件的依賴性強(qiáng),，測量穩(wěn)定性較差,，因而測量精度不高；對于不同材料的薄膜需要使用不同波段的光源等,。目前,，這種方法主要應(yīng)用于有機(jī)薄膜的厚度測量。高精度膜厚儀免費(fèi)咨詢白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于納米制造中的薄膜厚度測量,。

對同一靶丸相同位置進(jìn)行白光垂直掃描干涉,，圖4-3是靶丸的垂直掃描干涉示意圖，通過控制光學(xué)輪廓儀的運(yùn)動機(jī)構(gòu)帶動干涉物鏡在垂直方向上的移動,，從而測量到光線穿過靶丸后反射到參考鏡與到達(dá)基底直接反射回參考鏡的光線之間的光程差，顯然,，當(dāng)一束平行光穿過靶丸后，偏離靶丸中心越遠(yuǎn)的光線,，測量到的有效壁厚越大，其光程差也越大,，但這并不表示靶丸殼層的厚度,，當(dāng)垂直穿過靶丸中心的光線測得的光程差才對應(yīng)靶丸的上,、下殼層的厚度,。

靶丸殼層折射率,、厚度及其分布參數(shù)是激光慣性約束聚變（ICF）物理實驗中非常關(guān)鍵的參數(shù),，精密測量靶丸殼層折射率,、厚度及其分布對ICF精密物理實驗研究具有非常重要的意義。由于靶丸尺寸微?。▉喓撩琢考墸⒔Y(jié)構(gòu)特殊（球形結(jié)構(gòu)）,、測量精度要求高,，如何實現(xiàn)靶丸殼層折射率及其厚度分布的精密測量是靶參數(shù)測量技術(shù)研究中重要的研究內(nèi)容。本論文針對靶丸殼層折射率及厚度分布的精密測量需求,，開展了基于白光干涉技術(shù)的靶丸殼層折射率及厚度分布測量技術(shù)研究,。白光干涉膜厚測量技術(shù)的應(yīng)用涵蓋了材料科學(xué),、光學(xué)制造,、電子工業(yè)等多個領(lǐng)域,。

為了分析白光反射光譜的測量范圍,，開展了不同壁厚的靶丸殼層白光反射光譜測量實驗。圖是不同殼層厚度靶丸的白光反射光譜測量曲線,，如圖所示,，對于殼層厚度30μm的靶丸,，其白光反射光譜各譜峰非常密集、干涉級次數(shù)值大；此外,，由于靶丸殼層的吸收，壁厚較大的靶丸信號強(qiáng)度相對較弱,。隨著靶丸殼層厚度的進(jìn)一步增加,，其白光反射光譜各譜峰將更加密集,，難以實現(xiàn)對各干涉譜峰波長的測量,。為實現(xiàn)較大厚度靶丸殼層厚度的白光反射光譜測量，需采用紅外的寬譜光源和光譜探測器,。對于殼層厚度為μm的靶丸，測量的波峰相對較少,，容易實現(xiàn)靶丸殼層白光反射光譜譜峰波長的準(zhǔn)確測量,；隨著靶丸殼層厚度的進(jìn)一步減小，兩干涉信號之間的光程差差異非常小,，以至于他們的光譜信號中只有一個干涉波峰，基于峰值探測的白光反射光譜方法難以實現(xiàn)其厚度的測量,；為實現(xiàn)較小厚度靶丸殼層厚度的白光反射光譜測量，可采用紫外的寬譜光源和光譜探測器提升其探測厚度下限,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于太陽能電池中的薄膜光學(xué)參數(shù)測量,。高精度膜厚儀推薦

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉圖像的分析實現(xiàn)對薄膜的形貌測量。珠海小型膜厚儀

在激光慣性約束核聚變實驗中,，靶丸的物性參數(shù)和幾何參數(shù)是靶丸制備工藝改進(jìn)和仿真模擬核聚變實驗過程的基礎(chǔ),，因此如何對靶丸多個參數(shù)進(jìn)行同步,、高精度,、無損的綜合檢測是激光慣性約束核聚變實驗中的關(guān)鍵問題,。以上各種薄膜厚度及折射率的測量方法各有利弊，但針對本文實驗,，仍然無法滿足激光核聚變技術(shù)對靶丸參數(shù)測量的高要求,，靶丸參數(shù)測量存在以下問題：不能對靶丸進(jìn)行破壞性切割測量,，否則,，被破壞后的靶丸無法用于于下一步工藝處理或者打靶實驗,；需要同時測得靶丸的多個參數(shù),，不同參數(shù)的單獨(dú)測量，無法提供靶丸制備和核聚變反應(yīng)過程中發(fā)生的結(jié)構(gòu)變化現(xiàn)象和規(guī)律,，并且效率低下,、沒有統(tǒng)一的測量標(biāo)準(zhǔn),。靶丸屬于自支撐球形薄膜結(jié)構(gòu)，曲面應(yīng)力大,、難展平的特點導(dǎo)致靶丸與基底不能完全貼合,，在微區(qū)內(nèi)可看作類薄膜結(jié)構(gòu)珠海小型膜厚儀

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