論文主要以半導(dǎo)體鍺和貴金屬金兩種材料為對象,，研究了白光干涉法,、表面等離子體共振法和外差干涉法實(shí)現(xiàn)納米級薄膜厚度準(zhǔn)確測量的可行性。由于不同材料薄膜的特性不同,，所適用的測量方法也不同,。半導(dǎo)體鍺膜具有折射率高，在通信波段（1550nm附近）不透明的特點(diǎn),，選擇采用白光干涉的測量方法,；而厚度更薄的金膜的折射率為復(fù)數(shù),，且能激發(fā)明顯的表面等離子體效應(yīng),，因而可借助基于表面等離子體共振的測量方法,；為了進(jìn)一步改善測量的精度，論文還研究了外差干涉測量法,，通過引入高精度的相位解調(diào)手段,，檢測P光與S光之間的相位差提升厚度測量的精度。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉曲線的分析實(shí)現(xiàn)對薄膜的厚度分布的測量和分析,。常州原裝膜厚儀

根據(jù)以上分析可知,，白光干涉時(shí)域解調(diào)方案的優(yōu)點(diǎn)是：①能夠?qū)崿F(xiàn)測量；②抗干擾能力強(qiáng),，系統(tǒng)的分辨率與光源輸出功率的波動(dòng),，光源的波長漂移以及外界環(huán)境對光纖的擾動(dòng)等因素?zé)o關(guān)；③測量精度與零級干涉條紋的確定精度以及反射鏡的精度有關(guān),；④結(jié)構(gòu)簡單,，成本較低。但是,，時(shí)域解調(diào)方法需要借助掃描部件移動(dòng)干涉儀一端的反射鏡來進(jìn)行相位補(bǔ)償,，所以掃描裝置的分辨率將影響系統(tǒng)的精度。采用這種解調(diào)方案的測量分辨率一般是幾個(gè)微米,，達(dá)到亞微米的分辨率,，主要受機(jī)械掃描部件的分辨率和穩(wěn)定性限制。文獻(xiàn)[46]所報(bào)道的位移掃描的分辨率可以達(dá)到0.54μm,。當(dāng)所測光程差較小時(shí),，F(xiàn)-P腔前后表面干涉峰值相距很近，難以區(qū)分,，此時(shí)時(shí)域解調(diào)方案的應(yīng)用受到限制,。益陽品牌膜厚儀白光干涉膜厚測量技術(shù)是一種測量薄膜厚度的方法。

白光干涉測量技術(shù),，也被稱為光學(xué)低相干干涉測量技術(shù),，使用的是低相干的寬譜光源，例如超輻射發(fā)光二極管,、發(fā)光二極管等,。同所有的光學(xué)干涉原理一樣，白光干涉同樣是通過觀察干涉圖樣的變化來分析干涉光程差的變化,，進(jìn)而通過各種解調(diào)方案實(shí)現(xiàn)對待測物理量的測量,。采用寬譜光源的優(yōu)點(diǎn)是由于白光光源的相干長度很小（一般為幾微米到幾十微米之間）,，所有波長的零級干涉條紋重合于主極大值,，即中心條紋,，與零光程差的位置對應(yīng)。中心零級干涉條紋的存在使測量有了一個(gè)可靠的位置的參考值,，從而只用一個(gè)干涉儀即可實(shí)現(xiàn)對被測物理量的測量,，克服了傳統(tǒng)干涉儀無法實(shí)現(xiàn)測量的缺點(diǎn)。同時(shí),，相比于其他測量技術(shù),白光干涉測量方法還具有對環(huán)境不敏感,、抗干擾能力強(qiáng)、測量的動(dòng)態(tài)范圍大,、結(jié)構(gòu)簡單和成本低廉等優(yōu)點(diǎn),。目前，經(jīng)過幾十年的研究與發(fā)展,，白光干涉技術(shù)在膜厚,、壓力、溫度,、應(yīng)變,、位移等等測量領(lǐng)域已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用。

針對靶丸自身獨(dú)特的特點(diǎn)及極端實(shí)驗(yàn)條件需求,，使得靶丸參數(shù)的測試工作變得異常復(fù)雜,。如何精確地測定靶丸的光學(xué)參數(shù)，一直是激光聚變研究者非常關(guān)注的課題,。由于光學(xué)測量方法具有無損,、非接觸、測量效率高,、操作簡便等優(yōu)越性,，靶丸參數(shù)測量通常采用光學(xué)測量方式。常用的光學(xué)參數(shù)測量手段很多,，目前,，常用于測量靶丸幾何參數(shù)或光學(xué)參數(shù)的測量方法有白光干涉法、光學(xué)顯微干涉法,、激光差動(dòng)共焦法等,。靶丸殼層折射率是沖擊波分時(shí)調(diào)控實(shí)驗(yàn)研究中的重要參數(shù)，因此,，精密測量靶丸殼層折射率十分有意義,。而常用的折射率測量方法[13]，如橢圓偏振法,、折射率匹配法,、白光光譜法、布儒斯特角法等。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉圖像的分析實(shí)現(xiàn)對薄膜的表面和內(nèi)部結(jié)構(gòu)測量,。

基于表面等離子體共振傳感的測量方案,，利用共振曲線的三個(gè)特征參量—共振角、半高寬和反射率小值,，通過反演計(jì)算得到待測金屬薄膜的厚度,。該測量方案可同時(shí)得到金屬薄膜的介電常數(shù)和厚度，操作方法簡單,。我們利用Kretschmann型結(jié)構(gòu)的表面等離子體共振實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),，測得金膜在入射光波長分別為632.8nm和652.1nm時(shí)的共振曲線,，由此得到金膜的厚度為55.2nm,。由于該方案是一種強(qiáng)度測量方案，測量精度受環(huán)境影響較大,，且測量結(jié)果存在多值性的問題,，所以我們進(jìn)一步對偏振外差干涉的改進(jìn)方案進(jìn)行了理論分析，根據(jù)P光和S光之間相位差的變化實(shí)現(xiàn)厚度測量,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于光學(xué)通信中的薄膜透過率測量,。安慶有哪些膜厚儀

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以對薄膜的厚度、反射率,、折射率等光學(xué)參數(shù)進(jìn)行測量,。常州原裝膜厚儀

靶丸殼層折射率、厚度及其分布參數(shù)是激光慣性約束聚變（ICF）物理實(shí)驗(yàn)中非常關(guān)鍵的參數(shù),，精密測量靶丸殼層折射率,、厚度及其分布對ICF精密物理實(shí)驗(yàn)研究具有非常重要的意義。由于靶丸尺寸微?。▉喓撩琢考墸?、結(jié)構(gòu)特殊（球形結(jié)構(gòu)）、測量精度要求高,，如何實(shí)現(xiàn)靶丸殼層折射率及其厚度分布的精密測量是靶參數(shù)測量技術(shù)研究中重要的研究內(nèi)容,。本論文針對靶丸殼層折射率及厚度分布的精密測量需求，開展了基于白光干涉技術(shù)的靶丸殼層折射率及厚度分布測量技術(shù)研究,。常州原裝膜厚儀

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