浙江分路器硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)
實(shí)驗(yàn)中我們經(jīng)常使用硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)獲得了超過50%的耦合效率測(cè)試以及低于-20dB的偏振串?dāng)_,。我們還對(duì)一個(gè)基于硅條形波導(dǎo)的超小型偏振旋轉(zhuǎn)器進(jìn)行了理論分析,該器件能夠?qū)崿F(xiàn)100%的偏轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)化效率,并擁有較大的制造容差。在這里,我們還對(duì)利用側(cè)向外延生長(zhǎng)硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)技術(shù)實(shí)現(xiàn)Ⅲ-Ⅴ材料與硅材料混集成的可行性進(jìn)行了初步分析,并優(yōu)化了諸如氫化物氣相外延,化學(xué)物理拋光等關(guān)鍵工藝,。在該方案中,二氧化硅掩膜被用來阻止InP種子層中的線位錯(cuò)在外延生長(zhǎng)中的傳播,。初步實(shí)驗(yàn)結(jié)果和理論分析證明該集成平臺(tái)對(duì)于實(shí)現(xiàn)InP和硅材料的混合集成具有比較大的吸引力。利用硅的高折射率差和成熟的制造工藝,硅光子學(xué)被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)高集成度光子芯片的較佳選擇,。浙江分路器硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)
硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)組件裝夾完成后,，主要是通過校正X,Y和Z方向的偏差來進(jìn)行的初始光功率進(jìn)行耦合測(cè)試的，圖像處理軟件能自動(dòng)測(cè)量出各項(xiàng)偏差,，然后軟件驅(qū)動(dòng)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)和運(yùn)動(dòng)平臺(tái)來補(bǔ)償偏差,，以及給出提示，繼續(xù)手動(dòng)調(diào)整角度滑臺(tái),。當(dāng)三個(gè)器件完成初始定位,，同時(shí)確認(rèn)其在Z軸方向的相對(duì)位置關(guān)系后，這時(shí)需要確認(rèn)輸入光纖陣列和波導(dǎo)器件之間光的耦合對(duì)準(zhǔn),。點(diǎn)擊找初始光軟件會(huì)將物鏡聚焦到波導(dǎo)器件的輸出端面,。通過物鏡及初始光CCD照相機(jī)，可以將波導(dǎo)輸出端各通道的近場(chǎng)圖像投射出來,，進(jìn)行適當(dāng)耦合后,，圖像會(huì)被投射到顯示器上。重慶自動(dòng)硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)機(jī)構(gòu)光通信的一個(gè)發(fā)展趨勢(shì)是實(shí)現(xiàn)集成化,，類似于集成電路,，將光通信系統(tǒng)集成在單一光電子芯片。
硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)的激光器與硅光芯片耦合結(jié)構(gòu)及其封裝結(jié)構(gòu)和封裝方法,發(fā)散的高斯光束從激光器芯片出射,經(jīng)過耦合透鏡進(jìn)行聚焦;聚焦過程中光路經(jīng)過隔離器進(jìn)入反射棱鏡,經(jīng)過反射棱鏡的發(fā)射,光路發(fā)生彎折并以一定的角度入射到硅光芯片的光柵耦合器上面,耦合進(jìn)硅光芯片。本發(fā)明所提供的激光器與硅光芯片耦合結(jié)構(gòu),其無需使用超高精度的耦合對(duì)準(zhǔn)設(shè)備,耦合過程易于實(shí)現(xiàn),耦合效率更高,且研發(fā)成本較低;激光器與硅光芯片耦合封裝結(jié)構(gòu)及其封裝方法,采用傳統(tǒng)TO工藝封裝光源,氣密性封裝,與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有比較強(qiáng)的可生產(chǎn)性,比較高的可靠性,更低的成本,更高的耦合效率,適用于400G硅光大功率光源應(yīng)用,。
我們分析了一種可以有效消除偏振相關(guān)性的偏振分級(jí)方案,并提出了兩種新型結(jié)構(gòu)以實(shí)現(xiàn)該方案中的兩種關(guān)鍵元件,。通過理論分析以及實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,一個(gè)基于一維光柵的偏振分束器被證明能夠?qū)崿F(xiàn)兩種偏振光的有效分離。該分束器同時(shí)還能作為光纖與硅光芯片之間的高效耦合器,。實(shí)驗(yàn)中我們獲得了超過50%的耦合效率以及低于-20dB的偏振串?dāng)_,。我們還對(duì)一個(gè)基于硅條形波導(dǎo)的超小型偏振旋轉(zhuǎn)器進(jìn)行了理論分析,該器件能夠?qū)崿F(xiàn)100%的偏轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)化效率,并擁有較大的制造容差。在這里,我們還對(duì)利用側(cè)向外延生長(zhǎng)硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)技術(shù)實(shí)現(xiàn)Ⅲ-Ⅴ材料與硅材料混集成的可行性進(jìn)行了初步分析,并優(yōu)化了諸如氫化物氣相外延,化學(xué)物理拋光等關(guān)鍵工藝,。在該方案中,二氧化硅掩膜被用來阻止InP種子層中的線位錯(cuò)在外延生長(zhǎng)中的傳播,。初步實(shí)驗(yàn)結(jié)果和理論分析證明該集成平臺(tái)對(duì)于實(shí)現(xiàn)InP和硅材料的混合集成具有比較大的吸引力。IC測(cè)試架可以測(cè)試多種集成電路,。
說到功率飄忽不定,，耦合直通率低一直是影響產(chǎn)能的重要因素，功率飄通常與耦合板的位置有關(guān),，因此在耦合時(shí)一定要固定好相應(yīng)的位置,，不可隨便移動(dòng)，此外部分機(jī)型需要使用專屬版本,，又或者說耦合RF線材損壞也會(huì)對(duì)功率的穩(wěn)定造成比較大的影響,。若以上原因都排除則故障原因就集中在終測(cè)儀和機(jī)頭本身了。結(jié)尾說一說耦合不過站的故障,，為防止耦合漏作業(yè)的現(xiàn)象,，在耦合的過程中會(huì)通過網(wǎng)線自動(dòng)上傳耦合數(shù)據(jù)進(jìn)行過站，若MES系統(tǒng)的外觀工位攔截到耦合不過站的機(jī)頭,，則比較可能是CB一鍵藕合工具未開啟或者損壞,，需要卸載后重新安裝，排除耦合4.0的故障和電腦系統(tǒng)本身的故障之后,，則可能是MES系統(tǒng)本身的問題導(dǎo)致耦合數(shù)據(jù)無法上傳而導(dǎo)致不過站的現(xiàn)象的,。硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)硅光芯片的好處：接口和集成方便。天津自動(dòng)硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)生產(chǎn)廠家
硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn)：體積小,。浙江分路器硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)
在光芯片領(lǐng)域,，芯片耦合封裝問題是光子芯片實(shí)用化過程中的關(guān)鍵問題，芯片性能的測(cè)試也是至關(guān)重要的一步驟,，現(xiàn)有的硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)是將光芯片的輸入輸出端光纖置于顯微鏡下靠人工手工移動(dòng)微調(diào)架轉(zhuǎn)軸進(jìn)行調(diào)光,，并依靠對(duì)輸出光的光功率進(jìn)行監(jiān)控，再反饋到微調(diào)架端進(jìn)行調(diào)試,。芯片測(cè)試則是將測(cè)試設(shè)備按照一定的方式串聯(lián)連接在一起,，形成一個(gè)測(cè)試站。具體的,，所有的測(cè)試設(shè)備通過光纖,，設(shè)備連接線等連接成一個(gè)測(cè)試站,。例如將VOA光芯片的發(fā)射端通過光纖連接到光功率計(jì)，就可以測(cè)試光芯片的發(fā)端光功率,。將光芯片的發(fā)射端通過光線連接到光譜儀,，就可以測(cè)試光芯片的光譜等。浙江分路器硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)
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